奈米定位平台常见的驱动方式有两种:线性马达与压电。两者都能做到奈米级的位移控制,差别在行程、速度、定位表现与机构整合。选型时除了解析度,还要一起看实际需要的行程、负载、定位精度和控制器配置。下面先厘清规格书上最容易混淆的三个数字,再比较两种平台,最后整理 piezosystem jena 各系列的规格。

奈米定位平台的解析度、重复性与定位精度

解析度是平台能产生或分辨的最小位移;重复性看多次回到同一位置时结果有多一致;定位精度则是指令位置与实际位置的差距——下达 50 µm 的指令,平台最后停在哪里,就是定位精度的问题。三者可能相差一两个数量级,规格写解析度 1 nm,不代表定位精度也是 1 nm。

压电陶瓷的形变是连续的,所以开回路平台能产生非常细微的位移。以 PX 38 系列为例,开回路版本解析度 0.07 nm,PX 38 SG 闭回路版本则是 0.7 nm。这两个是不同的产品版本,感测器配置、控制器需求和外形尺寸都不一样(25×25×18 mm 对 40×40×25 mm),比对规格时要先确认看的是哪一版。

开回路还要考虑压电材料的迟滞与潜变。依 piezosystem jena 原厂技术资料,迟滞宽度通常是指令位移的 10–15%,潜变约为每十倍时间 1–2%。所以要长时间停在指定位置、或要求扫描线性度的应用,多半会选闭回路版本。延伸阅读:压电平台的开回路与闭回路怎么选、压电平台规格书常见陷阱。

两种奈米定位平台:线性马达与压电

比较项目线性马达平台压电奈米定位平台
驱动与导引线性马达+高解析回授,搭配滑轨或气浮轴承压电陶瓷形变,经挠性机构导引,无滑动摩擦、无背隙
典型行程数十到数百毫米数十微米到约 1.5 毫米(本文表列型号 32–1,500 µm)
位移控制可达奈米级,实际表现取决于回授、控制器与机构可达次奈米到奈米级;原厂解析度标示受放大器杂讯与量测系统限制
动态适合长距离的高速移动适合短行程的快速微调、步进与连续扫描
整合体积与移动质量较大体积小,可叠在其他平台上,或直接装在物镜、光学元件上

行程超过约 1–2 mm,通常先从线性马达或伺服平台看起;主要在小范围内快速微调、扫描,或安装空间有限,则优先比较压电平台。很多半导体检测与显微镜设备是两者并用:长行程平台先把样品送到目标区域,再由压电平台做最后一段微调。

如果定位需求其实在 0.5–1 µm 等级,伺服平台多半就能做到,不一定要用压电;需要高速响应、短行程连续扫描或无背隙运动时,压电的优势才会明显。两种平台的基本差异可以参考〈压电平台是什么?〉。

压电奈米定位平台怎么选

行程:够用就好,不要多选。同一类平台,行程越长,解析度数字通常越大。从下方规格表可以看到:PX 38(39 µm)开回路解析度 0.07 nm、PX 100(100 µm)0.2 nm、nanoX 400(480 µm)0.8 nm、PX 1500(1,500 µm)3 nm。先算清楚实际要动多远,再留一点余裕,比直接挑最长行程更能兼顾解析度。

轴数:只动一个方向,就先看单轴。单轴有 PX、nanoX;XY 有 PXY、nanoSXY;XYZ 有 TRITOR;Z 轴有 PZ,另有直接装在显微镜物镜上的 MIPOS。多轴平台把几个方向整合在一个机构里,安装方便,但单一方向需求用单轴型号,机构整合会简单许多。

感测器:要解析度选 CAP,要轻巧可先看 SG。piezosystem jena 的闭回路有 SG(应变规)和 CAP(电容式)两种版本。CAP 的闭回路解析度通常较好:nanoX 200 SG 为 4 nm、CAP 为 1 nm;PXY 100 SG 为 2 nm、CAP 为 1 nm。代价是重量或尺寸:nanoX 200 两版外形相同(52×70×22 mm),但 SG 版 190 g、CAP 版 300 g;PXY 100 的 CAP 版外形则比 SG 版大(65×65×20 mm 对 60×60×21 mm)。对扫描线性度要求高的量测,一般会选 CAP;空间或移动质量受限、解析度需求在数奈米等级时,SG 版就足够。

负载与扫描速度。平台的负载与共振频率决定实际能扫多快。要高速往复扫描时,除了最大负载,还要看平台在实际负载下的动态特性;这两项各型号差异很大,产品页不一定列出,可向拿顺索取原厂规格书比对。

控制器。压电平台一定要搭配放大器,闭回路版本还要用对应的闭回路控制器。原厂标示的解析度是在指定放大器下量测的:PX 系列以 NV 40/3(闭回路 NV 40/3 CLE)量测,nanoX 200 以 30V300 量测,并注明解析度只受放大器杂讯与量测系统限制。也就是说,换一台杂讯较大的放大器,实际解析度就会变差;估算成本时,平台和控制器也要一起算。

完整的五步流程可参考〈压电平台选型指南〉。

piezosystem jena 奈米定位平台规格速查

系列/版本轴向开回路行程 (µm)闭回路行程 (µm)开回路解析度 (nm)闭回路解析度 (nm)原厂量测放大器
PX 38/PX 38 SGX3932(SG)0.070.7(SG)NV 40/3(闭回路 NV 40/3 CLE)
PX 100/SGX10080(SG)0.22(SG)NV 40/3(闭回路 NV 40/3 CLE)
nanoX 200/SG/CAPX2402000.44(SG)/1(CAP)30V300
nanoX 400/SG/CAPX4804000.88(SG)/2(CAP)ENV40
PX 1500X1,500—3—NV 40/3
PXY 100/SG/CAPX, Y100800.22(SG)/1(CAP)产品页未注明
nanoSXY 120/CAPX, Y120100(CAP)0.241.0(CAP)30V300
nanoSXY 400/CAPX, Y400320(CAP)0.81.0(CAP)30V300
TRITOR 100/SG/CAPX, Y, Z100800.22.0(SG)/1.0(CAP)产品页未注明
PZ 400/SGZ400320(SG)0.88(SG)NV 40/3(闭回路 NV 40/3 CLE)
MIPOS 500/SG(物镜)Z500400(SG)0.912(SG)产品页未注明

表内为各系列代表性规格。开回路、SG、CAP 是不同的产品版本;解析度要连同控制器与量测条件一起看,不能直接当成定位精度或重复性。行程公差、最大负载、共振频率与外形尺寸,请见各产品页或向拿顺索取原厂规格书。完整型号见 piezosystem jena 产品列表。

哪些应用会用到压电奈米定位

显微镜自动对焦与 Z 扫描。MIPOS 装在物镜与镜塔之间,直接移动物镜的 Z 轴,不必移动整个载台。延伸阅读:显微镜自动对焦应用。

晶圆检测与量测。由长行程平台切换量测位置,再用压电平台微调,兼顾行程与检测位置的重现性。延伸阅读:晶圆检测六轴定位。

光纤对位。耦合位置偏移会直接反映在光功率上。系统若已用光功率回授做寻峰,外部回授就扮演了闭回路的角色,可以评估开回路压电平台。延伸阅读:晶圆级测试的光纤寻峰。

扫描式量测。对 XY 扫描线性度有要求时,可以从 nanoSXY 等 CAP 闭回路版本开始比较。

需要协助评估

选型时拿顺需要的条件包括:移动行程、容许的定位误差、负载重量、移动或扫描速度,以及可用的安装空间。若设备要长时间维持定位,也请说明环境温度、振动与现有的回授方式。这些条件可以透过询价单提供,有机台图面或现用型号也请一并附上;拿顺会依条件比较开回路、SG、CAP 与不同轴数的配置。拿顺是 piezosystem jena 德国原厂台湾独家总代理。